Оборудование для NIL-нанопечати в плане энергопотребления может обеспечить снижение на 90% по сравнению с EUV.
В то же время, благодаря лучшему коэффициенту конверсии и более низким затратам на разработку — примерно на 60% ниже, чем у EUV, — нанопечать рассматривается как основная технология литографии, имеющая на данный момент наибольшие шансы заменить EUV для реализации техпроцессов ниже 7 нанометров.
Раз у технологии нанопечати так много преимуществ, почему же за двадцать лет, прошедших с момента ее предложения в 1995 году, она так и не нашла по-настоящему широкомасштабного применения?
Существует три основные трудности, которые необходимо решить.
Во-первых, первой трудностью является проблема изготовления шаблона. Если требуется достичь точности обработки уровня EUV-литографии, размеры самого шаблона должны быть очень маленькими. Изготовление шаблона предъявляет чрезвычайно высокие требования к технологическому процессу, необходимо обеспечить идеальную плоскостность и минимальные погрешности.
В то же время технология наноимпринтинга предъявляет крайне жесткие требования к выбору материалов для шаблона.
Требуется не только высокая прочность, механическая стойкость и коррозийная стойкость, но и обеспечение очень низкого коэффициента расширения при высоких температурах для удовлетворения требований многократной печати.
В зависимости от технологических требований в настоящее время существуют кремниевые шаблоны, кварцевые шаблоны, никелевые шаблоны, а также полимерные, PDMS, композитные шаблоны и так далее.
Второй ключевой технической трудностью является область резиста для импринтинга. В отличие от традиционного фоторезиста, резист, необходимый для NIL, должен обладать хорошей адгезией к подложке и низкой вязкостью для успешного завершения всего процесса отделения.
В то же время он должен обладать такими характеристиками, как малая усадка и высокая кроющая способность.
После двадцати лет поисков резист для наноимпринтинга все еще находится на стадии непрерывных исследований и оптимизации.
Последняя трудность заключается в оборудовании для импринтинга и травления.
Мы видим, что метод наноимпринтинга идет по совершенно иному пути, чем традиционный метод литографии.
В идеальном случае весь процесс импринтинга и травления не должен сопровождаться появлением пузырьков воздуха, деформаций или слипания.
К равномерности нанесения резиста и стабильности оборудования предъявляются очень высокие требования.
Даже самые незначительные вибрации и механические погрешности могут привести к резкому снижению выхода годной продукции.
Особенно при производстве логических чипов со сложной структурой, решение проблемы отклонений в обработке невозможно реализовать в краткосрочной перспективе.
Чтобы обладать полным набором технологий наноимпринтинга NIL, необходимо приобрести соответствующие сопутствующие технологии.
Помимо оборудования для наноимпринтинга NIL, также необходимо приобрести технологию резиста для импринтинга и оборудование для травления.
Стоимость оборудования для наноимпринтинга NIL в очках престижа невелика — его можно получить всего за один миллиард очков престижа, однако затраты на исследования и время разработки пугающе велики.
Требуется три года на разработку и пять миллиардов затрат на исследования и разработки.
Поскольку наноимпринтинг NIL отличается от технологии EUV-литографии — для EUV-литографии уже существует полная производственная цепочка, в то время как большинство технологий наноимпринтинга NIL можно разработать только самостоятельно.
Это и является причиной длительного цикла разработки и высокой стоимости данной технологии.
Что касается технологии резиста для импринтинга и оборудования для травления, то здесь все гораздо проще.
Для импринт-резиста требовалось всего сто миллионов очков престижа, пятьдесят миллионов на НИОКР и шесть месяцев разработки.
Расходы на разработку оборудования для травления были самыми низкими: требовалось всего тридцать миллионов очков престижа, сто миллионов на НИОКР и шесть месяцев разработки.
Другими словами, если Цао Ман хотел полностью реализовать эту технологию, ему требовалось два миллиарда двести sixty миллионов очков престижа и пять миллиардов пятнадцать миллионов на НИОКР.
Самым поразительным в этой технологии было энергопотребление.
Большая часть стоимости производства чипа уходит на оплату электроэнергии.
Наноимпринтная литография NIL, похоже, может снизить себестоимость производства чипов более чем на 70%.
То есть чип, который изначально стоил 300 юаней, с помощью этой технологии может стоить всего 90 юаней, и вся эта разница в себестоимости — чистая прибыль.
Хотя Цао Ман уже приобрел технологию 7-нм EUV-литографии.
Но Цао Ман был не прочь внедрить и NIL-наноимпринт, ведь эта вещь позволяла снизить производственные затраты на 70%.
Вскоре Цао Ман прибыл к вилле Ван Сяоюань.
Шэнь Лидун и остальные, доставив Цао Мана к вилле, разместились в соседнем доме.
Чтобы устроить телохранителей, Цао Ман попросил Ван Сяоюань купить еще две виллы. Благодаря денежной суперсиле Цао Мана прежние владельцы съехали в тот же день.
Вернувшись домой, Цао Ман увидел Лю Сиси и сестер Лэн Сяосяо, играющих в видеоигры в гостиной.
Ван Сяоюань и Инь Сувань готовили ужин на кухне.
Что касается Лу Чусюэ.
С тех пор как завод Шэньлань Оптикс был продан, Лу Чусюэ осталась не у дел, поэтому она спросила Цао Мана, нет ли для нее какой-нибудь работы.
Цао Ман поручил ей вопрос вхождения в капитал Хуавэй Клауд, и Лу Чусюэ вместе с финансовой группой отправилась в Гуйцянь для проведения аудита Хуавэй Клауд.
Хотя Цао Ман верил, что старик Жэнь не станет его обманывать.
Но то, что положено сделать, все равно нужно было сделать.
— Сестра Сиси, скорее иди сюда и спаси меня! — взволнованно крикнула Лэн Сяосяо.
Она вся двигалась в такт персонажу в игре.
— Сяосяо, на твоей стороне полно зомби, я не могу прорваться! — отозвалась Лю Сиси.
Глядя на этих трех игроманок, Цао Ман лишь беспомощно качал головой.
То, что они так хорошо ладили между собой, было для него самым большим утешением.
— Оппа, ты вернулся! — радостно воскликнула Инь Сувань, выходя из кухни с блюдом в руках.
Она подбежала к Цао Ману и крепко обняла его.
— Устала? — улыбнулся Цао Ман, ущипнув её за точеный носик.
Услышав голос Инь Сувань, остальные тоже заметили возвращение Цао Мана.
Сестры Лэн Сяосяо и Лю Сиси одновременно обернулись.
— Ой, братик, почему ты не позвал нас, когда пришел? — весело воскликнула Лэн Сяосяо.
— С возвращением, — коротко поприветствовала его Лэн Сяосяо.
Характер Лэн Сяосяо отличался от сестры: она была молчаливой и неразговорчивой, но в постели... в определенные моменты она становилась страстной, как огонь, просто не умела это выражать.
— Ты вернулся, — улыбнулась Лю Сиси.
— Скучала по мне? — спросил Цао Ман, присаживаясь на диван и обнимая Лю Сиси за талию.
— Вовсе нет. Без тебя нам, сестрам, живется прекрасно, — Лю Сиси закатила глаза, ответив с напускным высокомерием.
За время, проведенное вместе, Лю Сиси очень сблизилась с остальными девушками.
Хотя они и не прошли вместе через огонь и воду, они уже стали настоящими сестрами.
Если бы Лю Сиси не была беременна, Цао Ман непременно проучил бы её как следует, чтобы она знала, кто в доме хозяин.
— Сяосяо, иди помоги накрыть на стол, скоро будем обедать! Сестра Сиси, можете мыть руки и садиться за стол! — крикнула Ван Сяоюань.
Так как Лю Ифэй была на два-три года старше их всех, женщины в доме называли Лю Сиси сестрой.
К тому же, теперь, когда Лю Сиси была беременна, статус главной жены от нее никуда не денется.
То, что они называли Лю Сиси сестрой, не было чем-то чрезмерным.
— Спасибо за твои труды, Сяоюань, — с улыбкой сказала Лю Сиси.
— Вовсе нет, — с улыбкой ответила Ван Сяоюань.
Готовка была одним из ее хобби, и дома всегда готовила она.
Обновлено: 23.01.2026